对于套刻精度高这一点,高振东是有所预计的,决定套刻精度的主要就是工件台,而三轧厂的一帮老师傅大发神威,将工件台的定位精度搞到了1。5μm。
而东北光学所的光学系统图形畸变只有1个μm不到,这两者结合起来,套刻精度绝对差不了。
显微镜里,两次光刻的痕迹非常明显,一条叠在另一条上面,重合度非常高。
这种办法,好就好在处理算法可以随时根据需要修改。
键盘声啪啪作响,现场人员的心情反而安定下来,从刚才他们测量中报的数来看,这个结果差不了。
2μm!
虽然早有所料,但是当这个数字跳出来的时候,高振东还是哈哈大笑了起来。
“哈哈哈……好!太好了!”
这个套刻精度,已经超出了当前所需,PMOS套刻次数少,其实不严格的说,10μm的分辨率下,5μm的套刻精度都是够用的。
现在,高振东可以直接宣布,我们的第一代PMOS工艺集成电路,线宽是10μm。
这个线宽听起来不咋样,但是举个例子就知道它的用处了,DJS-59的原型,那片金色的C8008,它的工艺就是10μm-PMOS!那一小片芯片上,晶体管数量是6000+。
而首个4Kbit(512Byte)的DRAM,工艺是8μm-NMOS,虽然是NMOS,但是并不意味着只有NMOS才能用于和NMOS的最大区别是开关方向相反,而且NMOS开关速度比PMOS要快2。5倍左右。
但是这是61年,PMOS慢点又不是不能用。
可惜那两片芯片出现的时候,高振东还没法锁定兑换的能力,但是这没有关系,还是那句话,行业初期,主打一个简单凑合能用就行,设计的核心难度不大。
DJS-59的晶体管的电路,其实基本上和C8008内是一模一样的,现在高振东要做的,就是把这个结构还原到光刻掩模上去。
不过这是个力气活儿,高振东一个人是搞不成的,太浪费时间了,这个事情,可就落在京城工大这一届的部分大四学生头上了。
原本高振东的考虑是光刻机不敢太乐观,初期预计是50μm左右,后来看到三轧厂的老师傅和东北光学所如此给力,才把SZ61XXX系列芯片头三片改为了20μm。
现在扎扎实实的10μm有望,那不得乐死,就算得先教半年学生,再画上个一年两年的图,那也是一个字儿——值!
而且有了这些基础,能搞的事情,可就多了,比如自动化人的最爱——单片机。
不过不论是CPU化的DJS-59也好,还是单片机也好,都还需要时间,至少得等两样东西。
——集成电路工艺的真正成熟、芯片的完整设计。
尤其是单片机,这东西看起来和通用CPU差不多,但是在当前的运算速度之下,最好使用另外一个结构——哈佛结构。
相对冯。诺依曼结构来说,这个结构的效率更高一些。
这些都是后话,现在的当务之急,是把光刻机投入到集成电路工艺中去,尽快让整条集成电路的工艺成熟,至少先生产出一定数量的基础数字逻辑芯片,让大家用起来。
别看这东西基本全手工,但是产量在这个年代来说并不低了,当然,和后世全自动光刻生产线没得比。
按照一片逻辑电路芯片使用5mm*5mm硅片面积来粗略计算的话,一片130mm晶圆能生产出500枚芯片来。
别看5*5这个面积很小,实际上在10μm工艺下,它几乎能生产类似74全系列的数字逻辑芯片了,大部分数字逻辑芯片最耗费硅片面积的部分,其实是它的线路引出的压接点。